Il target di sputtering al tellurio \u00e8 un materiale chiave ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dell’elettronica, dell’ottica e in altri campi, che prevede lo sputtering di atomi di tellurio e il loro deposito sulla superficie del substrato per formare un film sottile mediante bombardamento con un flusso di fasci di ioni in un ambiente ad alto vuoto.<\/p>\n
VIMATERIAL offre tellurio metallico di elevata purezza tellurio metallico<\/a><\/span> di tellurio metallico di elevata purezza, e pu\u00f2 personalizzare diverse dimensioni per soddisfare le vostre esigenze. Contattateci<\/a><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n Aspetto: Grigio.<\/p>\n Densit\u00e0: La densit\u00e0 teorica \u00e8 di circa 6,25 g\/cm3<\/sup>; l’alta densit\u00e0 \u00e8 importante per lo sputtering uniforme degli atomi e la deposizione uniforme di film sottili nel processo di sputtering.<\/p>\n Punto di fusione: Il punto di fusione \u00e8 di 450\u00b0C. Il punto di fusione relativamente moderato consente al target di mantenere la stabilit\u00e0 dello stato solido durante lo sputtering e di ottenere lo sputtering di atomi a un certo livello energetico.<\/p>\n Conducibilit\u00e0 termica: La conduttivit\u00e0 termica \u00e8 pari a 1,97~3,0 W\/m Kelvin; la dimensione della conduttivit\u00e0 termica influisce sul trasferimento di calore e sulla distribuzione della temperatura del materiale target durante il processo di sputtering, con una certa influenza sulla stabilit\u00e0 dello sputtering e sulla qualit\u00e0 del film.<\/p>\n Stabilit\u00e0 chimica: Come target di sputtering, pu\u00f2 mantenere una buona stabilit\u00e0 chimica in ambienti di sputtering adeguati (ad esempio, alto vuoto, protezione con gas inerte, ecc.) per garantire che la purezza e la qualit\u00e0 del film non siano influenzate da reazioni chimiche con altre sostanze durante il processo di sputtering.<\/p>\n Caratteristiche di purezza: Generalmente fino al 99,99% o addirittura al 99,999%. L’elevata purezza pu\u00f2 garantire la purezza degli atomi di tellurio sputati, in modo che il film depositato abbia buone propriet\u00e0 elettriche e ottiche e soddisfi gli elevati requisiti dei semiconduttori, dell’elettronica, dell’ottica e di altri settori sui materiali a film sottile.<\/p>\n Propriet\u00e0 della struttura cristallina: Il tellurio esiste in due isotopi, allo stato cristallino e amorfo. La struttura cristallina influisce sulla direzione di sputtering e sulla distribuzione energetica degli atomi durante il processo di sputtering, che a sua volta influisce sulla microstruttura e sulle propriet\u00e0 del film.<\/p>\n Uniformit\u00e0 di sputtering: il target di sputtering di tellurio metallico di alta qualit\u00e0 deve avere una buona uniformit\u00e0 di sputtering, in modo che il film depositato sull’intera superficie del substrato abbia uno spessore e una distribuzione delle prestazioni uniformi.<\/p>\n Caratteristiche di legame: anche la forza di legame con il materiale di supporto (come rame, alluminio, ecc.) \u00e8 una caratteristica importante. Buone caratteristiche di legame possono garantire che il target non si separi dal materiale di supporto durante il processo di sputtering, il che influisce sulla stabilit\u00e0 dello sputtering e sulla qualit\u00e0 del film.<\/p>\n Celle solari: I target sputtering al tellurio sono ampiamente utilizzati nelle celle solari a film sottile CdTe e CIGS per depositare o drogare gli strati funzionali, contribuendo a migliorare la qualit\u00e0 del film, l’efficienza di conversione e le prestazioni complessive del dispositivo.<\/p>\n Settore dei semiconduttori: Utilizzati nella produzione di circuiti integrati e di dispositivi di memoria avanzati come le memorie a cambiamento di fase (PCM) per formare film sottili droganti, barriera, isolanti o a cambiamento di fase che migliorano le prestazioni e l’affidabilit\u00e0 del dispositivo.<\/p>\n Applicazioni termoelettriche: Utilizzato per preparare film sottili termoelettrici a base di tellurio che convertono efficacemente il calore in elettricit\u00e0 per il recupero del calore di scarto e la generazione di energia.<\/p>\n Settore ottico e display: Applicato nei rivestimenti ottici, nei rivelatori a infrarossi e nei display a schermo piatto per formare film sottili funzionali che migliorano la trasmissione della luce, la sensibilit\u00e0 agli infrarossi, l’efficienza e la stabilit\u00e0 dei dispositivi.<\/p>\n I target di sputtering al tellurio sono sigillati sottovuoto in sacchetti di plastica o fogli di alluminio a prova di umidit\u00e0, imbottiti con schiuma protettiva o imbottitura e imballati in cartoni robusti o casse di legno per prevenire l’umidit\u00e0, l’ossidazione e i danni meccanici durante il trasporto, garantendo una superficie pulita e l’integrit\u00e0 strutturale.<\/p>\n Gli obiettivi di sputtering al tellurio devono essere conservati in un ambiente fresco, asciutto, pulito e ben ventilato, lontano da umidit\u00e0, temperature elevate e gas corrosivi. Mantenere la confezione ben sigillata ed evitare l’esposizione frequente all’aria per prevenire l’ossidazione o la contaminazione, mantenendo prestazioni stabili e una maggiore durata.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":" Il target di sputtering al tellurio \u00e8 un materiale chiave ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dell’elettronica, dell’ottica e in altri campi, che prevede lo sputtering di atomi di tellurio e il loro deposito sulla superficie del substrato per formare un film sottile mediante bombardamento con un flusso di fasci di ioni in un ambiente […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":1032681,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[197],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-1048600","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-obiettivi-di-sputtering-planari","8":"first","9":"instock","10":"shipping-taxable","11":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1048600","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1048600"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1032681"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1048600"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1048600"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1048600"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1048600"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}Caratteristiche<\/span><\/h2>\n
Applicazioni del target sputtering al tellurio<\/span><\/h2>\n
Imballaggio e stoccaggio<\/span><\/h2>\n