I target di sputtering al molibdeno sono materiali industriali realizzati con molibdeno metallico di elevata purezza. Possiedono elevati punti di fusione, bassi coefficienti di espansione, eccellente conducibilit\u00e0 elettrica e termica e resistenza alla corrosione a temperatura ambiente, che li rendono ampiamente utilizzati nei chip dei semiconduttori, nei pannelli di visualizzazione e nelle celle solari.<\/p>\n
VIMATERIAL offre prodotti di alta qualit\u00e0 molibdeno metallo<\/a><\/span> di alta qualit\u00e0 e di elevata purezza. Le dimensioni personalizzate sono disponibili su richiesta. Contattateci<\/a><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n Formula chimica: Mo<\/p>\n Peso atomico: 95,94 g\/mol<\/p>\n Densit\u00e0: circa 10,28 g\/cm\u00b3<\/p>\n Punto di fusione: 2623\u00b0C<\/p>\n Conduttivit\u00e0 termica: circa 138 W\/(m\u30fbK)<\/p>\n Conduttivit\u00e0 elettrica: circa 1,87\u00d710\u2076 S\/m<\/p>\n Alta densit\u00e0: Le sue caratteristiche di alta densit\u00e0 aiutano a controllare meglio l’emissione e la deposizione delle particelle sputate durante il processo di sputtering, ottenendo una migliore uniformit\u00e0 di spessore del film e una struttura pi\u00f9 densa, migliorando cos\u00ec le prestazioni del film.<\/p>\n Buona conducibilit\u00e0 elettrica e termica: Il molibdeno metallico ha una buona conducibilit\u00e0 elettrica e termica, in grado di trasferire efficacemente la corrente e il calore durante il processo di sputtering per garantire la stabilit\u00e0 del processo di sputtering e, allo stesso tempo, contribuire a migliorare la qualit\u00e0 della crescita del film e la forza di legame con il substrato.<\/p>\n Eccellente resistenza alla corrosione: ha una buona resistenza alla corrosione della maggior parte delle sostanze chimiche e pu\u00f2 rimanere stabile in diversi ambienti di lavoro, non \u00e8 facile da corrodere o ossidare, il che prolunga la vita utile del target di sputtering e garantisce anche la stabilit\u00e0 chimica del film preparato.<\/p>\n Industria elettronica: I target di sputtering al molibdeno sono utilizzati per depositare film nei circuiti integrati, come strati di barriera e di metallizzazione, e nei display a schermo piatto per elettrodi TFT e posteriori, migliorando le prestazioni e l’affidabilit\u00e0 dei dispositivi.<\/p>\n Campo ottico: Utilizzati per depositare film ottici come specchi e filtri, i target di molibdeno offrono un’elevata riflettivit\u00e0, un basso assorbimento ed eccellenti prestazioni ottiche nell’infrarosso.<\/p>\n Industria decorativa: Attraverso lo sputtering, i target di molibdeno producono rivestimenti metallici e resistenti all’usura per gioielli, orologi e interni di automobili, migliorando l’estetica e la durata.<\/p>\n Settore energetico: Nelle celle solari e nelle batterie a film sottile, i target di molibdeno sono utilizzati per depositare elettrodi posteriori o elettrodi a film sottile, migliorando la conduttivit\u00e0, l’efficienza e le prestazioni di carica-scarica.<\/p>\n I target di sputtering al molibdeno sono solitamente imballati in materiali protettivi, anti-umidit\u00e0 e anti-ossidazione, spesso con schiuma o imbottitura per evitare graffi e danni durante il trasporto.<\/p>\n Devono essere conservati in un ambiente pulito, asciutto e ventilato, lontano da umidit\u00e0, sostanze chimiche corrosive e temperature elevate, per mantenere la qualit\u00e0 della superficie e le prestazioni.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":" I target di sputtering al molibdeno sono materiali industriali realizzati con molibdeno metallico di elevata purezza. 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Caratteristiche <\/span>del target di sputtering al molibdeno<\/span><\/h2>\n
Applicazioni del target di sputtering al molibdeno<\/span><\/h2>\n
Imballaggio e stoccaggio<\/span><\/h2>\n