{"id":1046909,"date":"2024-06-17T15:29:41","date_gmt":"2024-06-17T07:29:41","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/siliciuro-di-molibdeno\/"},"modified":"2024-06-17T15:29:41","modified_gmt":"2024-06-17T07:29:41","slug":"siliciuro-di-molibdeno","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/siliciuro-di-molibdeno\/","title":{"rendered":"Siliciuro di molibdeno"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">1. Obiettivi di sputtering al siliciuro di molibdeno Descrizione<\/span><\/h2>\n<div>Bersagli sputtering ad alta purezza<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/search\/?type=name&#038;keyword=Mosi2\"> Molibdeno silicizzato di elevata purezza<\/a> <\/span>forniti da VIMATERIAL sono adatti al rivestimento PVD, ai film sottili ottici e ai dispositivi a semiconduttore. Questi target di molibdeno silicizzato ad alta densit\u00e0 e purezza assicurano la deposizione uniforme di film sottili e la stabilit\u00e0 alle alte temperature.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">2. Panoramica dei prodotti di <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">Siliciuro di molibdeno <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">bersagli per sputtering<\/span><\/h2>\n<div><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">VIMATERIALE<\/a><\/span>moSi\u2082 (molibdeno silicizzato) sono prodotti utilizzando materie prime di elevata purezza e processi avanzati di sinterizzazione ad alta temperatura, che garantiscono una deposizione uniforme e una stabilit\u00e0 a lungo termine. Questi bersagli sono adatti per il rivestimento PVD, i film sottili ottici, i dispositivi a semiconduttore e la produzione di materiali resistenti all&#8217;usura ad alta temperatura.<\/div>\n<div>Purezza: \u226599,9%<\/div>\n<div>Densit\u00e0: \u226599% di densit\u00e0 teorica<\/div>\n<div>Specifiche: Obiettivi rotondi e quadrati, spessore personalizzabile<\/div>\n<div>Forma: Particelle uniformi pressate e modellate<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">3. Specifiche tecniche<\/span><\/h2>\n<div>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 401.43pt;\" border=\"0\" width=\"669\" cellspacing=\"0\" cellpadding=\"0\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\"><strong>Parametro<\/strong><\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\"><strong>Descrizione<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Formula chimica<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">MoSi\u2082<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Contenuto di impurit\u00e0<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">Fe, Ni, Cu &lt; 50 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Densit\u00e0<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">\u22657,0 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Buona conduttivit\u00e0<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">adatto per rivestimenti ad alta temperatura<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 31.20pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 31.2pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"52\">Processo<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">Pressatura isostatica a freddo + sinterizzazione ad alta temperatura<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 31.20pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 31.2pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"52\">Forma<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">Obiettivi rotondi e quadrati, spessore personalizzabile<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Struttura del cristallo<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">Esagonale a strati ravvicinati<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 15.60pt;\">\n<td class=\"et2\" style=\"height: 15.6pt; width: 146.4pt; text-align: left;\" width=\"244\" height=\"26\">Piano posteriore di incollaggio<\/td>\n<td class=\"et2\" style=\"width: 255pt; text-align: left;\" width=\"425\">Personalizzabile<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<div><\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">4.Applicazioni<\/span><\/h2>\n<div>Rivestimento ottico PVD: L&#8217;elevata purezza garantisce un film sottile uniforme<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Dispositivi a semiconduttore: Adatto per la deposizione ad alta temperatura di materiali per chip e elettrodi<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Materiale resistente all&#8217;usura ad alta temperatura: Adatto per la preparazione di rivestimenti in ambienti estremi<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Ricerca e sperimentazione: Adatto alla scienza dei materiali e allo sviluppo di film sottili<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">5. Vantaggi del prodotto<\/span><\/h2>\n<div>Elevata purezza e alta densit\u00e0: Assicurano uniformit\u00e0 del film e prestazioni stabili.<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Stabilit\u00e0 alle alte temperature: Adatto ai processi di rivestimento PVD ad alta temperatura.<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Forme personalizzabili: Obiettivi rotondi e quadrati, con spessori personalizzati.<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Basse impurit\u00e0: Contenuto estremamente basso di Fe, Ni e Cu, che migliora la qualit\u00e0 del film.<\/div>\n<div><\/div>\n<div>Fornitura stabile e a lungo termine: Il rigoroso controllo di qualit\u00e0 assicura la costanza del prodotto.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">6. Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D1: Per quali processi di rivestimento sono adatti i target di sputtering MoSi\u2082?<\/span><\/h3>\n<div>A1: Sono adatti principalmente per PVD, sputtering magnetronico e deposizione di film sottili ottici, garantendo uniformit\u00e0 del film e stabilit\u00e0 alle alte temperature.<\/div>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D2: Le dimensioni dei target possono essere personalizzate?<\/span><\/h3>\n<div>A2: S\u00ec, i target rotondi e quadrati, cos\u00ec come gli spessori, possono essere personalizzati per soddisfare le esigenze dei clienti.<\/div>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Q3: Qual \u00e8 il contenuto di impurit\u00e0?<\/span><\/h3>\n<div>A3: I nostri target MoSi\u2082 hanno impurit\u00e0 estremamente basse, con un contenuto di Fe, Ni e Cu inferiore a 50 ppm, garantendo risultati di rivestimento di elevata purezza.<\/div>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D4: Quali sono i vantaggi dei target MoSi\u2082?<\/span><\/h3>\n<div>A4: Elevata purezza, alta densit\u00e0, deposizione uniforme, stabilit\u00e0 alle alte temperature e possibilit\u00e0 di personalizzare le forme.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">7. Imballaggio e spedizione<\/span><\/h2>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Imballaggio<\/span><\/h3>\n<div>Ogni bersaglio MoSi\u2082 \u00e8 incapsulato in schiuma antiurto di alta qualit\u00e0, materiale antistatico e imballaggio personalizzato per proteggerlo da urti e umidit\u00e0.<\/div>\n<div>Forniamo imballaggi specializzati per bersagli di diverse dimensioni (rotondi e quadrati) per garantire un trasporto sicuro. Offriamo una variet\u00e0 di opzioni di spedizione: via terra, via aerea o con corriere espresso per soddisfare le diverse esigenze dei clienti.<\/div>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Conservazione<\/span><\/h3>\n<div>Per mantenere la stabilit\u00e0 e le prestazioni dei target MoSi\u2082, \u00e8 necessario conservarli in un ambiente asciutto e a temperatura costante. Evitare l&#8217;esposizione prolungata all&#8217;aria e adottare misure di protezione per evitare umidit\u00e0, danni e contaminazione.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">8. Raccomandazioni d&#8217;uso<\/span><\/h2>\n<div>Per garantire prestazioni ottimali dei target MoSi\u2082, ispezionare le superfici per verificare la presenza di crepe e contaminazioni prima dell&#8217;installazione. Mantenere stabili la temperatura e la pressione ambiente durante il rivestimento e assicurarsi che l&#8217;apparecchiatura sia compatibile con il target. Pulire regolarmente la superficie del target e condurre un&#8217;ispezione e una manutenzione tempestive dell&#8217;apparecchiatura per garantire un funzionamento efficiente.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">9. Servizi di lavorazione<\/span><\/h2>\n<div>VIMATERIAL offre target MoSi\u2082 personalizzati, taglio di precisione e servizi di lavorazione per garantire la conformit\u00e0 ai requisiti dimensionali e di superficie del cliente. Per gli obiettivi che richiedono una finitura elevata, offriamo anche servizi di rettifica di precisione per garantire una superficie liscia adatta ai processi di rivestimento ad alta precisione.<\/div>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">10. Prodotti correlati<\/span><\/h2>\n<div><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/molibdeno-metallico-2\/\">Obiettivi per sputtering al molibdeno<\/a><\/span><\/div>\n<div><\/div>\n<div><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/search\/?type=name&#038;keyword=Tisi2\">Obiettivi per sputtering al titanio silicizzato<\/a><\/span><\/div>\n<div><\/div>\n<div><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/silicio\/\">Obiettivi sputtering al silicio<\/a><\/span><\/div>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Alta purezza<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/search\/?type=name&#038;keyword=Mosi2\"> Bersagli per sputtering al molibdeno silicizzato di elevata purezza<\/a> <\/span>forniti da VIMATERIAL sono adatti per rivestimenti PVD, film sottili ottici e dispositivi semiconduttori. Questi target di molibdeno silicizzato ad alta densit\u00e0 e purezza assicurano la deposizione uniforme di film sottili e la stabilit\u00e0 alle alte temperature.<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">VIMATERIALE<\/a><\/span>moSi\u2082 (siliciuro di molibdeno) sono prodotti utilizzando materie prime di elevata purezza e processi avanzati di sinterizzazione ad alta temperatura, che garantiscono una deposizione uniforme e una stabilit\u00e0 a lungo termine. 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