Componente principale: W\u2082B Il componente principale dei bersagli W\u2082B \u00e8 il composto W\u2082B, che consiste di tungsteno (W) e boro (B), con il tungsteno che ha una valenza media di circa +2 e il boro -2.<\/p>\n
Struttura cristallina: W\u2082B ha una struttura cristallina tetragonale.<\/p>\n
Aspetto e morfologia: i bersagli di boruro di tungsteno sono generalmente sotto forma di blocchi o dischi e il loro colore \u00e8 solitamente grigio o grigio scuro.<\/p>\n
Densit\u00e0: 16 – 17 g\/cm\u00b3.<\/p>\n
Durezza: circa 7 – 8.<\/p>\n
Deposizione di film sottili: i bersagli di boruro di tungsteno sono ampiamente utilizzati per la deposizione di film sottili nell’elettronica e nella produzione di semiconduttori. Il W\u2082B viene depositato sulla superficie di chip semiconduttori, circuiti stampati o componenti elettronici mediante tecniche di deposizione fisica da vapore come lo sputtering con magnetron o lo sputtering a fascio ionico.<\/p>\n
Materiali che emettono campo: Le propriet\u00e0 di emissione di elettroni di W\u2082B ne consentono l’utilizzo come materiale che emette campo. Depositando i film di W\u2082B sul substrato, \u00e8 possibile produrre materiali con buone propriet\u00e0 di emissione di campo per l’uso in campi come la microscopia elettronica e i display a schermo piatto.<\/p>\n
Materiali termoelettrici: il boruro di tungsteno \u00e8 prezioso anche per la ricerca nella conversione termoelettrica. Le sue propriet\u00e0 elettriche e termiche uniche consentono l’utilizzo di W\u2082B come materiale termoelettrico nei dispositivi di conversione del calore in elettricit\u00e0 per convertire il calore di scarto in elettricit\u00e0 e migliorare l’efficienza energetica.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
Deposizione di film sottile: i bersagli di boruro di tungsteno sono ampiamente utilizzati per la deposizione di film sottili nell’elettronica e nella produzione di semiconduttori. Il W\u2082B viene depositato sulla superficie di chip semiconduttori, circuiti stampati o componenti elettronici mediante tecniche di deposizione fisica da vapore come lo sputtering con magnetron o lo sputtering a fascio ionico.<\/p>\n
Materiali emettitori di campo: Le propriet\u00e0 di emissione di elettroni del boruro di tungsteno ne consentono l’utilizzo come materiale emettitore di campo. Depositando i film di W\u2082B sul substrato, \u00e8 possibile produrre materiali con buone propriet\u00e0 di emissione di campo per l’uso in campi come la microscopia elettronica e i display a schermo piatto.<\/p>\n","protected":false},"featured_media":1033206,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[197],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-1025140","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-obiettivi-di-sputtering-planari","8":"first","9":"instock","10":"shipping-taxable","11":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1025140","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1025140"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1033206"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1025140"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1025140"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1025140"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1025140"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}