Il bersaglio di Siliciuro di afnio \u00e8 un materiale importante.<\/p>\n
Informazioni di base:<\/p>\n
Composizione chimica: composto da due elementi, afnio (Hf) e silicio (Si), formula chimica HfSi\u2082.
\nNumero CAS: 12401-56-8.
\nAspetto: bersaglio solido solitamente grigio.
\nDensit\u00e0: Relativamente alta, il che gli conferisce una buona stabilit\u00e0 e propriet\u00e0 di trasporto del materiale durante lo sputtering.
\nPunto di fusione: alto punto di fusione, buona resistenza alle alte temperature, in grado di mantenere la stabilit\u00e0 strutturale durante il processo di sputtering.
\nDimensione delle particelle e cristallinit\u00e0: generalmente ha una distribuzione granulometrica pi\u00f9 uniforme e una buona cristallinit\u00e0, che \u00e8 molto importante per l’uniformit\u00e0 e la qualit\u00e0 del rivestimento sputtered.<\/p>\n
Aree di applicazione<\/p>\n
Deposizione di film sottili: nella produzione di semiconduttori, i target di Siliciuro di afnio vengono utilizzati in processi come la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD) per preparare film sottili di alta qualit\u00e0.<\/p>\n
Rivestimento ottico: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare pellicole ottiche, come pellicole antiriflesso, pellicole per il miglioramento della trasmittanza, ecc., che vengono utilizzate in dispositivi ottici, lenti, display e altri campi.
\nCampo di comunicazione ottica: nei dispositivi di comunicazione ottica, come amplificatori in fibra ottica, WDM, ecc., i target HfSi\u2082 possono essere utilizzati per preparare film ottici correlati per ottenere le funzioni di trasmissione, amplificazione e multiplexing dei segnali ottici.<\/p>\n
Display a schermo piatto: nella produzione di display a schermo piatto come display a cristalli liquidi (LCD), display al plasma (PDP), display a diodi organici a emissione di luce (OLED), ecc., i target HfSi\u2082 possono essere utilizzati per preparare film sottili come elettrodi e strati isolanti. Queste pellicole possono migliorare la risoluzione, la luminosit\u00e0, il contrasto e altre propriet\u00e0 del display e hanno una buona stabilit\u00e0 e affidabilit\u00e0.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
Il bersaglio di Siliciuro di afnio \u00e8 un materiale importante.<\/p>\n
Deposizione di film sottili: nella produzione di semiconduttori, i target di Siliciuro di afnio vengono utilizzati in processi come la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD) per preparare film sottili di alta qualit\u00e0.<\/p>\n
Rivestimento ottico: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare pellicole ottiche, come pellicole antiriflesso, pellicole per il miglioramento della trasmittanza, ecc., che vengono utilizzate in dispositivi ottici, lenti, display e altri campi.<\/p>\n
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