{"id":1012811,"date":"2024-06-17T14:28:55","date_gmt":"2024-06-17T06:28:55","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/siliciuro-di-titanio-2\/"},"modified":"2025-04-18T09:10:29","modified_gmt":"2025-04-18T01:10:29","slug":"siliciuro-di-titanio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/siliciuro-di-titanio-2\/","title":{"rendered":"Siliciuro di titanio"},"content":{"rendered":"

Siliciuro di titanio<\/a> <\/span>Il bersaglio sputtering TiSi2 \u00e8 un bersaglio composto composto da titanio e silicio, utilizzato principalmente in semiconduttori, circuiti integrati e altri campi, attraverso il processo di sputtering per depositare il film sottile TiSi\u2082 utilizzato per ridurre la resistenza di contatto, migliorare le prestazioni del dispositivo e cos\u00ec via molti aspetti.<\/p>\n

Forniamo bersagli di sputtering in titanio siliciuro TiSi2, VIMATERIAL pu\u00f2 anche fornire un servizio di rilegatura del bersaglio, i nostri prodotti sono soggetti a personalizzazione e sperimentazione, vi preghiamo di contattarci<\/a> <\/span>se necessario.<\/p>\n

Caratteristiche<\/p>\n

Formula molecolare: TiSi\u2082<\/p>\n

Peso molecolare: 104,04<\/p>\n

Aspetto: Solitamente grigio o nero solido<\/p>\n

Densit\u00e0: circa 4,39 g\/cm\u00b3.<\/p>\n

Punto di fusione: circa 1540\u00b0C<\/p>\n

Struttura cristallina: ha due strutture cristalline, C49 (fase a bassa temperatura) e C54 (fase ad alta temperatura), la struttura C49 \u00e8 una fase substabile e la struttura C54 \u00e8 una fase termodinamicamente stabile e pu\u00f2 essere trasformata dalla fase C49 alla fase C54 con un adeguato trattamento a temperatura e la trasformazione di questa struttura cristallina ha un effetto importante sulle sue propriet\u00e0 elettriche e di altro tipo.<\/p>\n

Applicazioni<\/p>\n

Campo dei semiconduttori: i bersagli sputtering TiSi2 in siliciuro di titanio <\/span>vengono utilizzati nella produzione di semiconduttori per formare uno strato di siliciuro durante il processo di metallizzazione del chip, che riduce efficacemente la resistenza di contatto tra la sorgente, lo scarico e il silicio e migliora le prestazioni del chip.<\/p>\n

Circuiti integrati: nei circuiti integrati, il film di TiSi\u2082 formato dallo sputtering del bersaglio pu\u00f2 essere utilizzato come parte dei fili di interconnessione, il che migliora la conduttivit\u00e0 del circuito e la velocit\u00e0 di trasmissione del segnale e migliora l’integrazione e l’efficienza operativa dei circuiti integrati.<\/p>\n

Campo fotovoltaico: bersaglio sputtering in titanio siliciuro <\/span>TiSi2 utilizzato nella preparazione di materiali per elettrodi per celle fotovoltaiche, pu\u00f2 migliorare il contatto elettrico tra l’elettrodo e il materiale semiconduttore e migliorare l’efficienza di conversione fotoelettrica della cella.<\/p>\n

Campo dei sistemi micro elettromeccanici (MEMS): nella fabbricazione di dispositivi MEMS, i film sottili spruzzati di TiSi\u2082 possono essere utilizzati come materiali strutturali o conduttivi per aiutare a costruire componenti meccanici ed elettronici di dimensioni micro e nanometriche, che supportano la miniaturizzazione e le alte prestazioni dei dispositivi MEMS.<\/p>\n

Controllo qualit\u00e0<\/p>\n

I nostri prodotti<\/a><\/span> sono soggetti a un rigoroso sistema di gestione della qualit\u00e0. Esistono rigorosi standard di ispezione per i materiali in entrata, la lavorazione, l’ispezione finale e l’ispezione in fabbrica. Per la lavorazione non qualificata vengono adottate rigorose misure di isolamento per evitare che prodotti non qualificati fluiscano nel processo successivo. I campioni sono forniti per la ri-ispezione del cliente in base alle esigenze del cliente. <\/p>\n

Imballaggio e stoccaggio<\/p>\n

I bersagli sputtering in titanio siliciuro TiSi2 sono confezionati in sacchetti sottovuoto a doppio strato e quindi inscatolati e confezionati in cartoni all’esterno.<\/p>\n

I bersagli sputtering TiSi\u2082 di titanio siliciuro devono essere conservati in un ambiente asciutto, pulito e ben ventilato con temperatura e umidit\u00e0 relativamente stabili, evitando umidit\u00e0, ossidazione e collisione fisica, inquinamento e allo stesso tempo essere isolati da altre sostanze che possono avere una reazione chimica, al fine di evitare che le sue prestazioni e qualit\u00e0 vengano danneggiate.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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