I bersagli per lo sputtering del biossido di silicio, il cui componente di base \u00e8 il biossido di silicio (SiO\u2082), sono utilizzati nei semiconduttori, nella deposizione chimica da vapore (CVD) e nella deposizione fisica da vapore (PVD) e nelle applicazioni ottiche. VIMATERIAL \u00e8 in grado di fornire target di sputtering in silice di diverse forme: dischi, piastre piane, target a pilastri, target a gradino,…<\/p>\n
La purezza di un bersaglio di sputtering di silice determina direttamente l’applicazione finale e il prezzo del materiale. I materiali a base di biossido di silicio con diversi livelli di purezza hanno requisiti diversi per i processi di produzione e purificazione. Purezza del 99,9%: solitamente utilizzato per rivestimenti ottici di base o applicazioni di visualizzazione di fascia bassa con requisiti bassi. Purezza del 99,99%: soddisfa alcune esigenze di produzione di semiconduttori e rivestimenti ottici ed \u00e8 significativamente pi\u00f9 costoso dei materiali di purezza del 99,9%. Purezza del 99,999%: adatto per applicazioni di semiconduttori e optoelettronici ad alta precisione, il suo costo di produzione \u00e8 molto elevato, perch\u00e9 il controllo delle impurit\u00e0 nel processo di produzione \u00e8 estremamente rigoroso, l’ambiente di produzione e i requisiti delle apparecchiature sono elevati. <\/p>\n
La produzione di target di ossido di silicio comprende la metallurgia delle polveri, la sinterizzazione a caldo, la pressatura isostatica a caldo (HIP) e altri processi. Questi processi determinano la densit\u00e0 strutturale, la porosit\u00e0 e l’effetto di formazione del film del bersaglio, che influisce direttamente sulla qualit\u00e0 e sul prezzo del bersaglio. Metallurgia delle polveri:<\/strong> \u00e8 il processo di base, utilizzato per la produzione di bersagli convenzionali. Sinterizzazione a caldo:<\/strong> Utilizzato per la produzione di bersagli di purezza pi\u00f9 elevata, che migliora la densit\u00e0 e la resistenza del materiale. Pressatura isostatica a caldo (HIP):<\/strong> il processo pi\u00f9 complesso, che migliora significativamente la densit\u00e0 e l’uniformit\u00e0 del target per applicazioni industriali impegnative. <\/p>\n Produzione di semiconduttori:<\/strong> I bersagli sputtering del biossido di silicio hanno importanti applicazioni nella produzione di semiconduttori e sono comunemente utilizzati nella produzione di dispositivi a semiconduttore come circuiti integrati e celle solari. La sua elevata purezza e le buone propriet\u00e0 di isolamento elettrico lo rendono un materiale ideale per la preparazione di strati isolanti per dispositivi elettronici e optoelettronici. Applicazioni ottiche:<\/strong> Il biossido di silicio \u00e8 anche ampiamente utilizzato in campo ottico. Grazie alla sua buona trasparenza ottica, i bersagli di silice sono adatti per la preparazione di strati antiriflesso e protettivi per componenti ottici e sono particolarmente adatti nelle regioni visibili e in alcune regioni UV. Produzione di display:<\/strong> Nella produzione di display, i bersagli sputtering con biossido di silicio sono utilizzati nella deposizione fisica da vapore (PVD) e nella deposizione chimica da vapore (CVD) per la produzione di pellicole e rivestimenti di alta qualit\u00e0. Altre applicazioni:<\/strong> Inoltre, i bersagli di silice vengono utilizzati per preparare rivestimenti antiriflesso, principalmente per pannelli solari e schermi piatti. La loro resistenza al calore e alla corrosione li rende stabili in una variet\u00e0 di ambienti difficili, migliorando l’affidabilit\u00e0 e la durata dell’apparecchiatura. <\/p>\n Imballaggio sottovuoto interno, imballaggio esterno in cartone\/cassa di legno.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":" I bersagli per lo sputtering del biossido di silicio, il cui componente di base \u00e8 il biossido di silicio (SiO\u2082), sono utilizzati nei semiconduttori, nella deposizione chimica da vapore (CVD) e nella deposizione fisica da vapore (PVD) e nelle applicazioni ottiche. VIMATERIAL \u00e8 in grado di fornire target di sputtering in silice di diverse forme: […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":999940,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[197],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-1010503","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-obiettivi-di-sputtering-planari","8":"first","9":"instock","10":"shipping-taxable","11":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1010503","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1010503"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/999940"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1010503"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1010503"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1010503"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1010503"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}Applicazione dei bersagli sputtering del biossido di silicio<\/span><\/h2>\n
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