{"id":1007462,"date":"2024-06-17T13:51:44","date_gmt":"2024-06-17T05:51:44","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/nitruro-di-alluminio-4\/"},"modified":"2024-11-06T17:24:05","modified_gmt":"2024-11-06T09:24:05","slug":"nitruro-di-alluminio-4","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/nitruro-di-alluminio-4\/","title":{"rendered":"Nitruro di alluminio"},"content":{"rendered":"<p>Il bersaglio di sputtering al nitruro di alluminio (AlN) \u00e8 un materiale ad alta purezza utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare lo sputtering, per creare film sottili di nitruro di alluminio su vari substrati. Noti per l&#8217;eccellente conduttivit\u00e0 termica, l&#8217;elevato isolamento elettrico e la durata, i film sottili AlN sono ampiamente applicati nell&#8217;industria elettronica, ottica e dei semiconduttori. La composizione e la qualit\u00e0 di produzione del target di sputtering al nitruro di alluminio sono fondamentali per ottenere rivestimenti uniformi e privi di difetti.  <\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Composizione e purezza:<\/span><\/h2>\n<p>Nitruro di alluminio (AlN): composto da alluminio e azoto, i target AlN offrono un&#8217;elevata conducibilit\u00e0 termica e isolamento elettrico. Elevata purezza (tipicamente \u2265 99,5%): i target AlN ad alta purezza sono essenziali per ottenere film sottili di alta qualit\u00e0 e privi di contaminazione, che sono fondamentali nelle applicazioni di semiconduttori ed elettronica.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propriet\u00e0 fisiche e termiche:<\/span><\/h2>\n<p>Elevata conducibilit\u00e0 termica: l&#8217;AlN offre una delle pi\u00f9 alte conducibilit\u00e0 termiche tra le ceramiche, fornendo un&#8217;eccellente dissipazione del calore per film sottili nell&#8217;elettronica. Isolamento elettrico: le propriet\u00e0 isolanti dell&#8217;AlN lo rendono ideale per i film che richiedono isolamento elettrico, come nei dispositivi a semiconduttore. Durevole e resistente alle sollecitazioni termiche: i bersagli di sputtering al nitruro di alluminio sono stabili alle alte temperature, il che li rende adatti a processi di deposizione prolungati.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni:<\/span><\/h2>\n<p>Industria dei semiconduttori: i film AlN sono utilizzati come strati isolanti nei dispositivi a semiconduttore, migliorando le prestazioni prevenendo la dispersione di corrente. Transistor a film sottile (TFT) e LED: l&#8217;AlN viene utilizzato nei transistor a film sottile e nei substrati LED, dove la sua conduttivit\u00e0 termica favorisce la dissipazione del calore, prolungando la vita operativa del dispositivo. Dispositivi a onde acustiche di superficie (SAW): le propriet\u00e0 piezoelettriche di AlN lo rendono adatto per i filtri SAW, comunemente utilizzati nei filtri RF e nei sistemi di comunicazione wireless. Optoelettronica e rivestimenti ottici: i film sottili AlN sono apprezzati in optoelettronica per la loro trasparenza e compatibilit\u00e0 con i dispositivi ottici.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Movimentazione e stoccaggio:<\/span><\/h2>\n<p>Fragilit\u00e0: i bersagli di nitruro di alluminio, sebbene durevoli in condizioni di deposizione, possono essere fragili. \u00c8 necessaria un&#8217;attenta manipolazione per evitare scheggiature o fratture. Controllo dell&#8217;umidit\u00e0: l&#8217;AlN \u00e8 leggermente suscettibile all&#8217;idrolisi in ambienti umidi, quindi si consiglia di conservare i bersagli in un ambiente asciutto e controllato per mantenere la purezza e le prestazioni. <\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Il bersaglio di sputtering al nitruro di alluminio (AlN) \u00e8 un materiale ad alta purezza utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare lo sputtering, per creare film sottili di nitruro di alluminio su vari substrati. 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