La cible de pulv\u00e9risation de monoxyde de silicium est un mat\u00e9riau sp\u00e9cialis\u00e9 utilis\u00e9 pour former des films minces dans le proc\u00e9d\u00e9 de d\u00e9p\u00f4t physique en phase vapeur (PVD). Il s\u2019agit d\u2019un compos\u00e9 des \u00e9l\u00e9ments silicium et oxyg\u00e8ne et est connu pour ses propri\u00e9t\u00e9s optiques, \u00e9lectriques et chimiques uniques. VIMATERIAL propose \u00e9galement de la poudre de monoxyde de silicium, des pastilles de monoxyde de silicium. <\/p>\n
Aspect : brun noir \u00e0 l\u0153ss Point de fusion : 1702\u00b0C Point d\u2019\u00e9bullition : 1880\u00b0C Densit\u00e9 : 2,13g\/cm<\/p>\n
1. Mat\u00e9riaux semi-conducteurs : Parce que le monoxyde de silicium a une grande puret\u00e9 et d\u2019excellentes propri\u00e9t\u00e9s physiques, il s\u2019agit d\u2019une mati\u00e8re premi\u00e8re importante pour la pr\u00e9paration de mat\u00e9riaux semi-conducteurs. En dotant avec d\u2019autres \u00e9l\u00e9ments, les propri\u00e9t\u00e9s conductrices du SiO peuvent \u00eatre ajust\u00e9es pour r\u00e9pondre aux besoins de diff\u00e9rents appareils \u00e9lectroniques. 2. Mat\u00e9riaux optiques : Le monoxyde de silicium a une transparence \u00e9lev\u00e9e et de bonnes propri\u00e9t\u00e9s optiques, il est donc souvent utilis\u00e9 comme mat\u00e9riau pour la pr\u00e9paration de lentilles optiques, de prismes et d\u2019autres composants optiques. 3. Mat\u00e9riaux c\u00e9ramiques : Le SiO est \u00e9galement un composant important pour la pr\u00e9paration de c\u00e9ramiques haute performance. Ces mat\u00e9riaux c\u00e9ramiques ont d\u2019excellentes propri\u00e9t\u00e9s telles que la r\u00e9sistance aux hautes temp\u00e9ratures et la r\u00e9sistance \u00e0 la corrosion, et sont largement utilis\u00e9s dans l\u2019a\u00e9rospatiale, la construction automobile et d\u2019autres domaines. <\/p>\n
La poudre de monoxyde de silicium est comprim\u00e9e et fritt\u00e9e sous vide ou sous gaz inerte pour former une cible dense.<\/p>\n
Augmente la densit\u00e9 de la cible et r\u00e9duit la porosit\u00e9 pour une pulv\u00e9risation uniforme.<\/p>\n
La cible est g\u00e9n\u00e9ralement li\u00e9e \u00e0 une plaque de support (g\u00e9n\u00e9ralement en cuivre) pour am\u00e9liorer la conductivit\u00e9 thermique et pr\u00e9venir la fissuration lors de la pulv\u00e9risation.<\/p>\n
Puret\u00e9 : \u226599,9 % Densit\u00e9 : g\u00e9n\u00e9ralement 2,13 g\/cm\u00b3. Taille : Personnalis\u00e9 pour r\u00e9pondre aux exigences du syst\u00e8me de d\u00e9p\u00f4t. Plaque de support : g\u00e9n\u00e9ralement en cuivre ou en molybd\u00e8ne pour la stabilit\u00e9 thermique.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
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