{"id":1010465,"date":"2024-06-17T14:14:20","date_gmt":"2024-06-17T06:14:20","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/dioxyde-de-silicium-2\/"},"modified":"2024-12-24T17:01:19","modified_gmt":"2024-12-24T09:01:19","slug":"dioxyde-de-silicium-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/fr\/product\/dioxyde-de-silicium-2\/","title":{"rendered":"Silice"},"content":{"rendered":"<p>Les cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium, dont le composant de base est le dioxyde de silicium (SiO\u2082), sont utilis\u00e9es dans les \u00e9crans et les applications optiques de semi-conducteurs, de d\u00e9p\u00f4t chimique en phase vapeur (CVD) et de d\u00e9p\u00f4t physique en phase vapeur (PVD). VIMATERIAL peut fournir des cibles de pulv\u00e9risation de silice sous diff\u00e9rentes formes : disques, plaques plates, cibles de pilier, cibles de marche, sur-mesure&#8230;<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Puret\u00e9 des cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium<\/span><\/h2>\n<p>La puret\u00e9 d\u2019une cible de pulv\u00e9risation de silice d\u00e9termine directement l\u2019application finale et le prix du mat\u00e9riau. Les mat\u00e9riaux en dioxyde de silicium de diff\u00e9rents niveaux de puret\u00e9 ont des exigences diff\u00e9rentes pour les processus de production et de purification. Puret\u00e9 de 99,9 % : G\u00e9n\u00e9ralement utilis\u00e9 pour les rev\u00eatements optiques de base ou les applications d\u2019affichage bas de gamme avec de faibles exigences. Puret\u00e9 de 99,99 % : R\u00e9pond \u00e0 certains besoins de fabrication de semi-conducteurs et de rev\u00eatement optique, et est nettement plus cher que les mat\u00e9riaux de puret\u00e9 de 99,9 %. Puret\u00e9 de 99,999 % : adapt\u00e9 aux applications de semi-conducteurs et d\u2019opto\u00e9lectronique de haute pr\u00e9cision, son co\u00fbt de fabrication est tr\u00e8s \u00e9lev\u00e9, car le contr\u00f4le des impuret\u00e9s dans le processus de production est extr\u00eamement strict, l\u2019environnement de production et les exigences en mati\u00e8re d\u2019\u00e9quipement sont \u00e9lev\u00e9s. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Proc\u00e9d\u00e9 de fabrication de cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium<\/span><\/h2>\n<p>La production de cibles d\u2019oxyde de silicium comprend la m\u00e9tallurgie des poudres, le frittage par presse \u00e0 chaud, le pressage isostatique \u00e0 chaud (HIP) et d\u2019autres processus. Ces processus d\u00e9terminent la densit\u00e9 structurelle, la porosit\u00e9 et l\u2019effet filmog\u00e8ne, ce qui affecte directement la qualit\u00e9 et le prix de la cible. <strong>M\u00e9tallurgie des poudres :<\/strong> c\u2019est le processus de base, utilis\u00e9 pour la production cible conventionnelle. <strong>Frittage \u00e0 chaud :<\/strong> Utilis\u00e9 pour la production d\u2019objectifs de puret\u00e9 plus \u00e9lev\u00e9e, ce qui am\u00e9liore la densit\u00e9 et la r\u00e9sistance du mat\u00e9riau. <strong>Pressage isostatique \u00e0 chaud (HIP) :<\/strong> le processus le plus complexe, qui am\u00e9liore consid\u00e9rablement la densit\u00e9 et l\u2019uniformit\u00e9 de la cible pour les applications industrielles exigeantes. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Application de cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium<\/span><\/h2>\n<p><strong>Fabrication de semi-conducteurs :<\/strong> Les cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium ont des applications importantes dans la fabrication de semi-conducteurs et sont couramment utilis\u00e9es dans la fabrication de dispositifs \u00e0 semi-conducteurs tels que les circuits int\u00e9gr\u00e9s et les cellules solaires. Sa grande puret\u00e9 et ses bonnes propri\u00e9t\u00e9s d\u2019isolation \u00e9lectrique en font un mat\u00e9riau id\u00e9al pour la pr\u00e9paration de couches isolantes pour les dispositifs \u00e9lectroniques et opto\u00e9lectroniques. <strong>Applications optiques :<\/strong> Le dioxyde de silicium est \u00e9galement largement utilis\u00e9 dans le domaine optique. En raison de sa bonne transparence optique, les cibles en silice conviennent \u00e0 la pr\u00e9paration de couches antireflets et protectrices pour les composants optiques, et sont particuli\u00e8rement bonnes dans les r\u00e9gions visibles et certaines zones UV. <strong>Fabrication de l\u2019\u00e9cran&nbsp;:<\/strong> Dans la fabrication d\u2019\u00e9crans, les cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium sont utilis\u00e9es dans le d\u00e9p\u00f4t physique en phase vapeur (PVD) et le d\u00e9p\u00f4t chimique en phase vapeur (CVD) pour la production de films et de rev\u00eatements de haute qualit\u00e9. <strong>Autres applications :<\/strong> De plus, les cibles de silice sont utilis\u00e9es pour pr\u00e9parer des rev\u00eatements antireflets, principalement pour les panneaux solaires et les \u00e9crans plats. Leur r\u00e9sistance \u00e0 la chaleur et \u00e0 la corrosion les rend stables dans une vari\u00e9t\u00e9 d\u2019environnements difficiles, am\u00e9liorant ainsi la fiabilit\u00e9 et la dur\u00e9e de vie de l\u2019\u00e9quipement. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Ensemble de cible de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium<\/span><\/h2>\n<p>Emballage sous vide int\u00e9rieur, emballage ext\u00e9rieur en carton\/caisse en bois.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Les cibles de pulv\u00e9risation de dioxyde de silicium, dont le composant de base est le dioxyde de silicium (SiO\u2082), sont utilis\u00e9es dans les \u00e9crans et les applications optiques de semi-conducteurs, de d\u00e9p\u00f4t chimique en phase vapeur (CVD) et de d\u00e9p\u00f4t physique en phase vapeur (PVD). 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