{"id":1009181,"date":"2024-06-17T14:07:30","date_gmt":"2024-06-17T06:07:30","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/silicate-de-magnesium\/"},"modified":"2024-11-13T16:03:04","modified_gmt":"2024-11-13T08:03:04","slug":"silicate-de-magnesium","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/fr\/product\/silicate-de-magnesium\/","title":{"rendered":"Silicate de magn\u00e9sium"},"content":{"rendered":"<p>La cible de pulv\u00e9risation cathodique de silicate de magn\u00e9sium est une forme sp\u00e9cialis\u00e9e de silicate de magn\u00e9sium con\u00e7ue pour \u00eatre utilis\u00e9e dans les processus de d\u00e9p\u00f4t de couches minces, tels que la pulv\u00e9risation. Ces cibles sont souvent fabriqu\u00e9es sous forme de disques solides ou d\u2019autres formes, optimis\u00e9es pour un transfert de mat\u00e9riau uniforme dans les syst\u00e8mes de d\u00e9p\u00f4t physique en phase vapeur (PVD), en particulier dans la recherche, l\u2019\u00e9lectronique et les applications optiques. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propri\u00e9t\u00e9s physiques&nbsp;:<\/span><\/h2>\n<p>Apparence&nbsp;: G\u00e9n\u00e9ralement de couleur grise \u00e0 blanche, avec une structure dense et uniforme pour assurer la coh\u00e9rence de la pulv\u00e9risation. Puret\u00e9 : Une puret\u00e9 \u00e9lev\u00e9e, souvent \u2265 99,9 %, est standard pour la plupart des applications en couches minces afin d\u2019\u00e9viter d\u2019introduire des impuret\u00e9s dans le film. Densit\u00e9 : Varie selon la formulation sp\u00e9cifique, mais se situe g\u00e9n\u00e9ralement entre 2,5 et 3,0 g\/cm\u00b3, ce qui garantit une durabilit\u00e9 sous des \u00e9nergies de pulv\u00e9risation \u00e9lev\u00e9es. Point de fusion : Environ 1557 \u00b0C (2835 \u00b0F), bien que les performances r\u00e9elles soient r\u00e9gies par la conductivit\u00e9 thermique et la r\u00e9silience de la cible sous bombardement de plasma.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applications:<\/span><\/h2>\n<p>Rev\u00eatements optiques : La cible de pulv\u00e9risation cathodique de silicate de magn\u00e9sium est utilis\u00e9e pour cr\u00e9er des films minces avec des propri\u00e9t\u00e9s optiques adapt\u00e9es aux rev\u00eatements antireflets ou r\u00e9fl\u00e9chissants sur le verre et d\u2019autres substrats. Fabrication de semi-conducteurs : La cible de pulv\u00e9risation cathodique de silicate de magn\u00e9sium est utilis\u00e9e dans le d\u00e9p\u00f4t de couches isolantes ou di\u00e9lectriques, contribuant \u00e0 la stabilit\u00e9 et \u00e0 la fiabilit\u00e9 du circuit. Transistors \u00e0 couche mince (TFT) : Essentiels en \u00e9lectronique pour cr\u00e9er des couches isolantes ou de passivation sp\u00e9cifiques dans les TFT et autres dispositifs micro\u00e9lectroniques. Rev\u00eatements protecteurs : Fournit des rev\u00eatements r\u00e9sistants \u00e0 la corrosion ou \u00e0 l\u2019usure pour divers composants m\u00e9caniques et optiques.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Manipulation et s\u00e9curit\u00e9 :<\/span><\/h2>\n<p>Stockage&nbsp;: Les cibles doivent \u00eatre stock\u00e9es dans un environnement propre et sec pour \u00e9viter toute contamination avant utilisation. Pr\u00e9cautions : La poussi\u00e8re de silicate de magn\u00e9sium peut \u00eatre nocive en cas d\u2019inhalation ; Ainsi, des pr\u00e9cautions de manipulation, y compris l\u2019utilisation d\u2019un \u00e9quipement de protection, sont recommand\u00e9es lors de la pr\u00e9paration et de l\u2019installation.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>La cible de pulv\u00e9risation cathodique de silicate de magn\u00e9sium est une forme sp\u00e9cialis\u00e9e de silicate de magn\u00e9sium con\u00e7ue pour \u00eatre utilis\u00e9e dans les processus de d\u00e9p\u00f4t de couches minces, tels que la pulv\u00e9risation. 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