{"id":1010520,"date":"2024-06-17T14:14:18","date_gmt":"2024-06-17T06:14:18","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/monoxido-de-silicio\/"},"modified":"2024-12-24T15:33:01","modified_gmt":"2024-12-24T07:33:01","slug":"monoxido-de-silicio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/product\/monoxido-de-silicio\/","title":{"rendered":"Mon\u00f3xido de silicio"},"content":{"rendered":"<p>El objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de mon\u00f3xido de silicio es un material especializado que se utiliza para formar pel\u00edculas delgadas en el proceso de deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD). Es un compuesto de los elementos silicio y ox\u00edgeno y es conocido por sus propiedades \u00f3pticas, el\u00e9ctricas y qu\u00edmicas \u00fanicas. VIMATERIAL tambi\u00e9n ofrece polvo de mon\u00f3xido de silicio, pellets de mon\u00f3xido de silicio. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propiedades del mon\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n<p>Aspecto: marr\u00f3n negro a loess Punto de fusi\u00f3n: 1702 \u00b0C Punto de ebullici\u00f3n: 1880 \u00b0C Densidad: 2,13 g \/ cm<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Aplicaci\u00f3n de objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de mon\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n<p>1. Materiales semiconductores: Debido a que el mon\u00f3xido de silicio tiene alta pureza y excelentes propiedades f\u00edsicas, es una materia prima importante para la preparaci\u00f3n de materiales semiconductores. Al doparse con otros elementos, las propiedades conductoras del SiO se pueden ajustar para satisfacer las necesidades de diferentes dispositivos electr\u00f3nicos. 2. Materiales \u00f3pticos: El mon\u00f3xido de silicio tiene una alta transparencia y buenas propiedades \u00f3pticas, por lo que a menudo se usa como material para preparar lentes \u00f3pticas, prismas y otros componentes \u00f3pticos. 3. Materiales cer\u00e1micos: El SiO tambi\u00e9n es un componente importante para la preparaci\u00f3n de cer\u00e1micas de alto rendimiento. Estos materiales cer\u00e1micos tienen excelentes propiedades, como resistencia a altas temperaturas y resistencia a la corrosi\u00f3n, y son ampliamente utilizados en la industria aeroespacial, la fabricaci\u00f3n de autom\u00f3viles y otros campos. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Preparaci\u00f3n de objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de mon\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Sinterizaci\u00f3n de polvo:<\/span><\/h3>\n<p>El polvo de mon\u00f3xido de silicio se comprime y sinteriza al vac\u00edo o con gas inerte para formar un objetivo denso.<\/p>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Prensado en caliente:<\/span><\/h3>\n<p>Aumenta la densidad del objetivo y reduce la porosidad para una pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica uniforme.<\/p>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Vinculaci\u00f3n:<\/span><\/h3>\n<p>Por lo general, el objetivo est\u00e1 unido a una placa de respaldo (generalmente de cobre) para mejorar la conductividad t\u00e9rmica y evitar el agrietamiento durante la pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Especificaciones del objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de mon\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n<p>Pureza: \u226599,9% Densidad: t\u00edpicamente 2,13 g\/cm\u00b3. Tama\u00f1o: Personalizado para adaptarse a los requisitos del sistema de deposici\u00f3n. Placa de respaldo: normalmente cobre o molibdeno para la estabilidad t\u00e9rmica.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>El objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de mon\u00f3xido de silicio es un material especializado que se utiliza para formar pel\u00edculas delgadas en el proceso de deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD). Es un compuesto de los elementos silicio y ox\u00edgeno y es conocido por sus propiedades \u00f3pticas, el\u00e9ctricas y qu\u00edmicas \u00fanicas. 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