Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio, cuyo componente b\u00e1sico es el di\u00f3xido de silicio (SiO\u2082), se utilizan en pantallas de semiconductores, deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor (CVD) y deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD) y aplicaciones \u00f3pticas. VIMATERIAL puede suministrar objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de s\u00edlice en diferentes formas: discos, placas planas, objetivos de columna, objetivos escalonados, …<\/p>\n
La pureza de un objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de s\u00edlice determina directamente la aplicaci\u00f3n final y el precio del material. Los materiales de di\u00f3xido de silicio de diferentes niveles de pureza tienen diferentes requisitos para los procesos de producci\u00f3n y purificaci\u00f3n. Pureza del 99,9%: Por lo general, se utiliza para recubrimientos \u00f3pticos b\u00e1sicos o aplicaciones de pantallas de gama baja con bajos requisitos. Pureza del 99,99%: Satisface algunas necesidades de fabricaci\u00f3n de semiconductores y recubrimiento \u00f3ptico, y es significativamente m\u00e1s caro que los materiales con una pureza del 99,9%. Pureza del 99,999%: adecuado para aplicaciones optoelectr\u00f3nicas y semiconductoras de alta precisi\u00f3n, su costo de fabricaci\u00f3n es muy alto, porque el control de impurezas en el proceso de producci\u00f3n es extremadamente estricto, el entorno de producci\u00f3n y los requisitos del equipo son altos. <\/p>\n
La producci\u00f3n de objetivos de \u00f3xido de silicio incluye pulvimetalurgia, sinterizaci\u00f3n por prensado en caliente, prensado isost\u00e1tico en caliente (HIP) y otros procesos. Estos procesos determinan la densidad estructural, la porosidad y el efecto de formaci\u00f3n de pel\u00edcula del objetivo, lo que afecta directamente la calidad y el precio del objetivo. Pulvimetalurgia:<\/strong> es el proceso b\u00e1sico que se utiliza para la producci\u00f3n de objetivos convencionales. Sinterizaci\u00f3n por prensado en caliente:<\/strong> Se utiliza para la producci\u00f3n de objetivos de mayor pureza, lo que mejora la densidad y la resistencia del material. Prensado isost\u00e1tico en caliente (HIP):<\/strong> el proceso m\u00e1s complejo, que mejora significativamente la densidad y uniformidad del objetivo para aplicaciones industriales exigentes. <\/p>\n Fabricaci\u00f3n de semiconductores:<\/strong> Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio tienen aplicaciones importantes en la fabricaci\u00f3n de semiconductores y se usan com\u00fanmente en la fabricaci\u00f3n de dispositivos semiconductores como circuitos integrados y c\u00e9lulas solares. Su alta pureza y buenas propiedades de aislamiento el\u00e9ctrico lo convierten en un material ideal para la preparaci\u00f3n de capas aislantes para dispositivos electr\u00f3nicos y optoelectr\u00f3nicos. Aplicaciones \u00f3pticas:<\/strong> El di\u00f3xido de silicio tambi\u00e9n se usa ampliamente en el campo \u00f3ptico. Debido a su buena transparencia \u00f3ptica, los objetivos de s\u00edlice son adecuados para la preparaci\u00f3n de capas antirreflectantes y protectoras para componentes \u00f3pticos, y son particularmente buenos en las regiones visibles y algunas UV. Fabricaci\u00f3n de pantallas:<\/strong> En la fabricaci\u00f3n de pantallas, los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio se utilizan en la deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD) y la deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor (CVD) para la producci\u00f3n de pel\u00edculas y recubrimientos de alta calidad. Otras aplicaciones:<\/strong> Adem\u00e1s, los objetivos de s\u00edlice se utilizan para preparar recubrimientos antirreflectantes, principalmente para paneles solares y pantallas planas. Su resistencia al calor y a la corrosi\u00f3n los hace estables en una variedad de entornos hostiles, lo que mejora la confiabilidad y la vida \u00fatil del equipo. <\/p>\n Embalaje al vac\u00edo interno, embalaje exterior de cart\u00f3n \/ caja de madera.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":" Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio, cuyo componente b\u00e1sico es el di\u00f3xido de silicio (SiO\u2082), se utilizan en pantallas de semiconductores, deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor (CVD) y deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD) y aplicaciones \u00f3pticas. VIMATERIAL puede suministrar objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de s\u00edlice en diferentes formas: discos, placas planas, objetivos de […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":999941,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[178],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-1010485","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-catodos-para-sputtering-planar","8":"first","9":"instock","10":"shipping-taxable","11":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1010485","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1010485"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media\/999941"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1010485"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1010485"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1010485"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1010485"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}Aplicaci\u00f3n de objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n
Paquete de objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de di\u00f3xido de silicio<\/span><\/h2>\n