{"id":1008628,"date":"2024-06-17T14:02:28","date_gmt":"2024-06-17T06:02:28","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/oxido-de-boro\/"},"modified":"2024-11-12T11:19:33","modified_gmt":"2024-11-12T03:19:33","slug":"oxido-de-boro","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/es\/product\/oxido-de-boro\/","title":{"rendered":"\u00d3xido de boro"},"content":{"rendered":"<p>El objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro (B\u2082O\u2083) es un material objetivo utilizado en el proceso de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica para depositar pel\u00edculas delgadas de \u00f3xido de boro sobre un sustrato, generalmente en aplicaciones como electr\u00f3nica, \u00f3ptica, recubrimientos y fabricaci\u00f3n de semiconductores. La pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica es una t\u00e9cnica de deposici\u00f3n f\u00edsica de vapor (PVD) en la que los \u00e1tomos son expulsados de un objetivo s\u00f3lido por iones energ\u00e9ticos y posteriormente se depositan sobre un sustrato para formar una pel\u00edcula delgada. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propiedades f\u00edsicas:<\/span><\/h2>\n<p>F\u00f3rmula qu\u00edmica:B2O3<\/p>\n<p>Masa molar:69.6182 g\/mol<\/p>\n<p>Aspecto: blanco, s\u00f3lido v\u00edtreo<\/p>\n<p>Densidad: Alrededor de 2,46 g\/cm\u00b3 para la forma s\u00f3lida. Punto de fusi\u00f3n: El \u00f3xido de boro tiene un punto de fusi\u00f3n de aproximadamente 450 \u00b0C (para forma amorfa). Punto de ebullici\u00f3n: El punto de ebullici\u00f3n del \u00f3xido de boro es de aproximadamente 3000 \u00b0C (en la fase de vapor). Dureza: Material duro y quebradizo, por lo que se debe tener cuidado para evitar grietas o da\u00f1os. Solubilidad: Reacciona con el agua para formar \u00e1cido b\u00f3rico (H\u2083BO\u2083), y es soluble tanto en agua como en soluciones alcalinas. Pureza: Disponible en varios grados de pureza, que suelen oscilar entre el 99% y el 99,9% o m\u00e1s para aplicaciones especializadas. Forma: Por lo general, un disco o placa plana, circular o cil\u00edndrica. Algunos objetivos pueden tener una placa de respaldo para facilitar la fijaci\u00f3n al sistema de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Aplicaciones:<\/span><\/h2>\n<p>Deposici\u00f3n de pel\u00edcula delgada: Se utiliza para depositar objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro para aplicaciones en electr\u00f3nica, \u00f3ptica y recubrimientos. Las pel\u00edculas de \u00f3xido de boro se pueden utilizar como capas diel\u00e9ctricas, revestimientos aislantes o barreras protectoras. Recubrimientos \u00f3pticos: Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro se utilizan en dispositivos \u00f3pticos por sus propiedades refractivas \u00fanicas y su capacidad para formar recubrimientos estables con alta durabilidad. Fabricaci\u00f3n de semiconductores: Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro se utilizan en la deposici\u00f3n de pel\u00edculas delgadas para dispositivos electr\u00f3nicos, particularmente para procesos de dopaje o para crear capas aislantes en componentes de semiconductores. Recubrimientos de alto rendimiento: Los objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro se utilizan en la producci\u00f3n de recubrimientos duros que brindan resistencia al desgaste, resistencia a la corrosi\u00f3n y estabilidad a altas temperaturas, especialmente en aplicaciones aeroespaciales, automotrices e industriales. Fabricaci\u00f3n de vidrio y cer\u00e1mica: Las pel\u00edculas de \u00f3xido de boro depositadas por pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica se utilizan en la producci\u00f3n de materiales especiales de vidrio o cer\u00e1mica, como el vidrio de borosilicato, que es conocido por su baja expansi\u00f3n t\u00e9rmica y alta resistencia al choque t\u00e9rmico. <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Seguridad y manejo:<\/span><\/h2>\n<p>Equipo de protecci\u00f3n: Al manipular objetivos de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro, es importante usar equipo de protecci\u00f3n personal (EPP) adecuado, como guantes, gafas protectoras y una m\u00e1scara contra el polvo o respirador para evitar la inhalaci\u00f3n de part\u00edculas. Almacenamiento: Almacene los objetivos de \u00f3xido de boro en un ambiente seco y fresco para evitar la absorci\u00f3n de humedad. El \u00f3xido de boro es higrosc\u00f3pico y reaccionar\u00e1 con el agua para formar \u00e1cido b\u00f3rico, que puede alterar las propiedades del objetivo. Primeros auxilios: Si entra en contacto con la piel, l\u00e1vese bien con agua. Si se inhala en cantidades significativas, mu\u00e9vase al aire libre y busque atenci\u00f3n m\u00e9dica si es necesario.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>El objetivo de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica de \u00f3xido de boro (B\u2082O\u2083) es un material objetivo utilizado en el proceso de pulverizaci\u00f3n cat\u00f3dica para depositar pel\u00edculas delgadas de \u00f3xido de boro sobre un sustrato, generalmente en aplicaciones como electr\u00f3nica, \u00f3ptica, recubrimientos y fabricaci\u00f3n de semiconductores. 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